最早接触到 Design for Manufacturing 这个概念是在 smic 的研讨会上，最近又在 techonline 上看到 一篇文章 ，这里把其中的部分内容总结一下：
Design for manufacturing or DFM： 考虑–制造、封装、测试（生产链）下的良率
促使DFM的因素：
1.more complex photolithography operations for deep-submicron designs
集成电路设计进入深亚微米下的越趋复杂的光刻操作
2.higher design complexity
设计复杂度的增大
在仿真三角波发生器的时候出现了这个问题，以前仿真施密特触发器的时候好像也有过，大致记得用.nodeset搞定的，现在试了不行，用 converge，dcon 之类的参数调了半天，最后发现用 .ic直接就能搞定…
查了一下，似乎 .nodeset是用在 dc 分析的，.ic 是用在 trans 里的，可还是没搞明白用 .nodeset 怎么连 op 工作点都是错的，dc 分析一直收敛不了呢？
关于Vcc和Vdd的差别，以前就一直有这个疑问，后来也有和一个师弟谈到，当时他还想到会不会是和器件的几个端有关，结果我当时没考虑到双极器件，就认为不对，现在想起来才觉得惭愧啊…
下面是google了一番之后的结果：
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把这Analog Circuit Design with Structual Methodolgy本书看了看，觉得要学的东西实在是太多了
这里面的一个思想就是强调system thinking
感觉对信号系统里的控制理论和电路的理解都有很高的要求
some tips：
structural methodology in analog ic design
1. description of the system functionality at the high level of abstraction using the signal flow graph;
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